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超精密工业清洗之纳米工艺

时间:2017-12-12    点击: 次    来源:网络    作者:佚名 - 小 + 大

超精密工业清洗之纳米工艺


当前,微电子技术已经发展到纳米工艺水平,90纳米的生产线已经在建设之中.通信设备中大量使用的波分复用光电子器件(DWDM),分辨率要达到精确地分开和识别不同波长的光.这类产品的清洗要达到近乎完美的程度,残留污物的直径要在0.1nm左右.普通的电子显微镜已经难以观察到。超精密工业清洗必须在超级净化的环境中进行,需要使用超高纯度的清洗剂和DI水(去离子水),以及高级清洗装置.除了部分简单设备外,目前我国尚没有企业能够提供该类技术和设备,基本依靠进口。

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